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計算光刻與版圖優(yōu)化
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光刻是集成電路制造的核心技術(shù),光刻工藝成本已經(jīng)超出集成電路制造總成本的三分之一。在集成電路制造的諸多工藝單元中,只有光刻工藝可以在硅片上產(chǎn)生圖形,從而完成器件和電路三維結(jié)構(gòu)的制造。計算光刻被公認(rèn)為是一種可以進(jìn)一步提高光刻成像質(zhì)量和工藝窗口的有效手段。基于光刻成像模型,計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優(yōu)化,對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正,還可以從工藝難度的角度對設(shè)計版圖提出修改意見,最終保證光刻工藝有足夠的分辨率和工藝窗口。本書共7章,首先對集成電路設(shè)計與制造的流程做簡要介紹,接著介紹集成電路物理設(shè)計(版圖設(shè)計)的全流程,然后介紹光刻模型、分辨率增強技術(shù)、刻蝕效應(yīng)修正、可制造性設(shè)計,最后介紹設(shè)計與工藝協(xié)同優(yōu)化。本書內(nèi)容緊扣先進(jìn)技術(shù)節(jié)點集成電路制造的實際情況,涵蓋計算光刻與版圖優(yōu)化的發(fā)展?fàn)顟B(tài)和未來趨勢,系統(tǒng)介紹了計算光刻與刻蝕的理論,論述了版圖設(shè)計與制造工藝的關(guān)系,以及版圖設(shè)計對制造良率的影響,講述和討論了版圖設(shè)計與制造工藝協(xié)同優(yōu)化的概念和方法論,并結(jié)合具體實施案例介紹了業(yè)界的具體做法。本書不僅適合集成電路設(shè)計與制造領(lǐng)域的從業(yè)者閱讀,而且適合高等院校微電子相關(guān)專業(yè)的本科生、研究生閱讀和參考。

韋亞一等 ·基礎(chǔ)知識 ·14萬字

量化研究體系:以7大模塊為核心
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本書以為廣大量化研究者建立一個一般性的量化研究流程(主要是量化策略開發(fā),但也包括其他量化研究)為主旨來展開撰寫的。全部的章節(jié)分布以流程化的形式展開,從量化研究的數(shù)據(jù)開始到最終以交易結(jié)束。數(shù)據(jù)庫、指標(biāo)庫、算法庫、工具庫、可視化庫、日常工作系統(tǒng)、交易系統(tǒng)這7個核心庫分別解決了量化研究中某一個環(huán)節(jié)的問題。量化研究是以上述7個庫存表征的環(huán)節(jié)的一個周而復(fù)始的工作。它將數(shù)據(jù)和思想相結(jié)合然后通過交易來檢驗研究成果是否達(dá)到預(yù)期,然后再改進(jìn)思想和更換數(shù)據(jù),并投入到下一次交易中。這樣的循環(huán)使得量化研究每一次都更加接近理想效果。而在循環(huán)的每一個環(huán)節(jié)上,本書給出了一系列的工具、算法、技術(shù)等來支撐各個庫的功能。本書在編程語言上以matlab和python為主,數(shù)據(jù)庫一章用到了一些mysql的基本知識,交易接口一章用到了一些mongodb的知識。可以說本書的內(nèi)容是十分豐富的,通過閱讀本書讀者可以對量化研究形成一個系統(tǒng)、全面、完整的認(rèn)識,并且在今后的研究工作中逐步拓展最終形成自己的體系。

李一邨 ·基礎(chǔ)知識 ·9.7萬字

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