- 芯片制造:半導體工藝與設備
- 陳譯等編著
- 630字
- 2022-05-10 16:59:38
2.3.3 循環冷卻水系統
在芯片制造的過程中,必須經過多種加工工藝的處理。設備在生產及測試等制造過程中會產生熱量。工藝循環冷卻水系統為廠區潔凈室設備提供在制造過程中所需的冷卻水。該系統運行時,需要穩定的流量、壓力和溫度,以及良好的水質,并且能長期連續運行[9]。
常用的工藝循環冷卻水系統流程如圖2.7所示。常用的工藝循環冷卻水系統的組成部分包括水箱(提供供應的水源及收集回水,同時可加入藥劑以調整水質)、水泵(提供足夠的動力將冷卻水送至用戶側)、熱交換器(讓冷卻水與冰水進行熱交換,保證冷卻水供水的溫度穩定)、變頻器(改變運轉頻率,可控制水泵出口達到相應的輸出壓力)、過濾器(將水中雜質過濾掉,以免工藝設備堵塞)。
工藝循環冷卻水系統為工藝設備提供溫度、壓力穩定的冷卻水系統,達到把設備生產時產生的熱量持續帶走的目的。溫度的穩定性通過溫度傳感器控制熱交換器側冰水閥門的開度,使工藝冷卻水的供水溫度保持在滿足設備生產運行的范圍內。通過控制泵的運行頻率使主系統的壓力保持穩定,從而為設備末端提供穩定的冷卻水供應。同時工藝循環冷卻水在供應給設備時還要保持其pH值和電導率在一定的范圍內,如果pH值和電導率在循環過程中上升,要根據實際情況進行排水,并把pH值和電導率控制在一定范圍內,保證供給設備的水質是滿足設備需求的。若整個工藝循環冷卻水系統在循環過程中水箱液位降低,會及時補進去離子水,以保證系統的運行穩定。如果去離子水無法補給,亦可采用自來水進行緊急補水。

圖2.7 常用的工藝循環冷卻水系統流程