4.4 特征陣列

特征陣列包括線性陣列、圓周陣列、表格驅動的陣列、草圖驅動的陣列和曲線驅動的陣列等。選擇【插入】│【陣列/鏡向】菜單命令，彈出特征陣列的菜單，如圖4-22所示。

4.4.1 特征線性陣列

特征的線性陣列是在一個或者幾個方向上生成多個指定的源特征。

1．特征線性陣列的屬性設置

單擊【特征】工具欄中的【線性陣列】按鈕，或者選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【線性陣列】菜單命令，彈出【線性陣列】屬性管理器，如圖4-23所示。

（1）【方向1】、【方向2】選項組

● 【陣列方向】：設置陣列方向，可以選擇線性邊線、直線、軸或者尺寸。

●【反向】：改變陣列方向。

●、【間距】：設置陣列實例之間的間距。

●【實例數】：設置陣列實例之間的數量。

● 【只陣列源】：只使用源特征而不復制【方向1】選項組的陣列實例在【方向2】選項組中生成的線性陣列。

（2）【特征和面】選項組

【要陣列的特征】：可以使用所選擇的特征作為源特征以生成線性陣列。

【要陣列的面】：可以使用構成源特征的面生成陣列。在圖形區(qū)域選擇源特征的所有面，這對于只輸入構成特征的面而不是特征本身的模型很有用。

（3）【實體】選項組

可以使用在多實體零件中選擇的實體生成線性陣列。

（4）【可跳過的實例】選項組

可以在生成線性陣列時跳過在圖形區(qū)域選擇的陣列實例。

（5）【特征范圍】選項組

包括所有實體、所選實體，幵有自動選擇單選框。

（6）【選項】選項組

● 【隨形變化】：允許重復時更改陣列。

● 【幾何體陣列】：只使用特征的幾何體生成線性陣列，而不陣列和求解特征的每個實例。

● 【延伸視象屬性】：將SolidWorks的顏色、紋理和裝飾螺紋數據延伸到所有陣列實例。

2．生成特征線性陣列的操作方法

（1）選擇要進行陣列的特征。

（2）單擊【特征】工具欄中的【線性陣列】按鈕，或者選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【線性陣列】菜單命令，彈出【線性陣列】屬性管理器。根據需要，設置各選項組參數，單擊【確定】按鈕，生成特征線性陣列，如圖4-24所示。

4.4.2 特征圓周陣列

圖4-24 生成特征線性陣列

特征的圓周陣列是將源特征圍繞指定的軸線復制多個特征。

1．特征圓周陣列的屬性設置

單擊【特征】工具欄中的【圓周陣列】按鈕，選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【圓周陣列】菜單命令，彈出【圓周陣列】屬性管理器，如圖4-25所示。

● 【陣列軸】：在圖形區(qū)域選擇軸、模型邊線或者角度尺寸，作為生成圓周陣列所圍繞的軸。

●【反向】：改變圓周陣列的方向。

●【角度】：設置每個實例之間的角度。

●【實例數】：設置源特征的實例數。

● 【等間距】：自動設置總角度為360°。

其他屬性設置不再贅述。

2．生成特征圓周陣列的操作方法

（1）選擇要進行陣列的特征。

（2）單擊【特征】工具欄中的【圓周陣列】按鈕，或者選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【圓周陣列】菜單命令，彈出【圓周陣列】屬性管理器。根據需要，設置各選項組參數，單擊【確定】按鈕，生成特征圓周陣列，如圖4-26所示。

4.4.3 表格驅動的陣列

【表格驅動的陣列】命令可以使用x、y坐標來對指定的源特征進行陣列。使用x、y坐標的孔陣列是【表格驅動的陣列】的常見應用，但也可以由【表格驅動的陣列】使用其他源特征（如凸臺等）。

1．表格驅動的陣列的屬性設置

選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【表格驅動的陣列】菜單命令，彈出【由表格驅動的陣列】屬性管理器，如圖4-27所示。

（1）【讀取文件】：鍵入含x、y坐標的陣列表或者文字文件。

（2）【參考點】：指定在放置陣列實例時x、y坐標所適用的點。

● 【所選點】：將參考點設置到所選頂點或者草圖點。

● 【重心】：將參考點設置到源特征的重心。

（3）【坐標系】：設置用來生成表格陣列的坐標系，包括原點、從【特征管理器設計樹】中選擇所生成的坐標系。

● 【要復制的實體】：根據多實體零件生成陣列。

● 【要復制的特征】：根據特征生成陣列，可以選擇多個特征。

● 【要復制的面】：根據構成特征的面生成陣列，選擇圖形區(qū)域的所有面。

（4）【幾何體陣列】：只使用特征的幾何體（如面和邊線等）生成陣列。

（5）【延伸視象屬性】：將SolidWorks的顏色、紋理和裝飾螺紋數據延伸到所有陣列實例。

2．生成表格驅動的陣列的操作方法

（1）生成坐標系1。選擇要進行陣列的特征。

（2）選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【表格驅動的陣列】菜單命令，彈出【由表格驅動的陣列】屬性管理器。根據需要進行設置，單擊【確定】按鈕，生成表格驅動的陣列，如圖4-28所示。

4.4.4 草圖驅動的陣列

草圖驅動的陣列是通過草圖中的特征點復制源特征的一種陣列方式。

1．草圖驅動的陣列的屬性設置

選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【草圖驅動的陣列】菜單命令，彈出【由草圖驅動的陣列】屬性管理器，如圖4-29所示。

（1）【參考草圖】：在【特征管理器設計樹】中選擇草圖用作陣列。

（2）【參考點】：進行陣列時所需的位置點。

● 【重心】：根據源特征的類型決定重心。

● 【所選點】：在圖形區(qū)域選擇一個點作為參考點。

其他屬性設置不再贅述。

2．生成草圖驅動的陣列的操作方法

（1）繪制平面草圖，草圖中的點將成為源特征復制的目標點。

（2）選擇要進行陣列的特征。

（3）選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【草圖驅動的陣列】菜單命令，彈出【由草圖驅動的陣列】屬性管理器。根據需要，設置各選項組參數，單擊【確定】按鈕，生成草圖驅動的陣列，如圖4-30所示。

4.4.5 曲線驅動的陣列

曲線驅動的陣列是通過草圖中的平面或者3D曲線復制源特征的一種陣列方式。

1．曲線驅動的陣列的屬性設置

選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【曲線驅動的陣列】菜單命令，彈出【曲線驅動的陣列】屬性管理器，如圖4-31所示。

（1）【陣列方向】：選擇曲線、邊線、草圖實體，或者在【特征管理器設計樹】中選擇草圖作為陣列的路徑。

（2）【反向】：改變陣列的方向。

（3）【實例數】：為陣列中源特征的實例數設置數值。

（4）【等間距】：使每個陣列實例之間的距離相等。

（5）【間距】：沿曲線為陣列實例之間的距離設置數值。

（6）【曲線方法】：使用所選擇的曲線定義陣列的方向。

● 【轉換曲線】：為每個實例保留從所選曲線原點到源特征的距離。

● 【等距曲線】：為每個實例保留從所選曲線原點到源特征的垂直距離。

（7）【對齊方法】：使用所選擇的對齊方法將特征進行對齊。

● 【與曲線相切】：對齊所選擇的與曲線相切的每個實例。

● 【對齊到源】：對齊每個實例以與源特征的原有對齊匹配。

（8）【面法線】:（僅對于3D曲線）選擇3D曲線所處的面以生成曲線驅動的陣列。

其他屬性設置不再贅述。

2．生成曲線驅動的陣列的操作方法

（1）繪制曲線草圖。

（2）選擇要進行陣列的特征。

（3）選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【曲線驅動的陣列】菜單命令，彈出【曲線驅動的陣列】屬性管理器，根據需要，設置各選項組參數，單擊【確定】按鈕，生成曲線驅動的陣列，如圖4-32所示。

4.4.6 填充陣列

填充陣列是在限定的實體平面或者草圖區(qū)域進行的陣列復制。

1．填充陣列的屬性設置

選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【填充陣列】菜單命令，彈出【填充陣列】屬性管理器，如圖4-33所示。

（1）【填充邊界】選項組

●【選擇面或共平面上的草圖、平面曲線】：定義要使用陣列填充的區(qū)域。

（2）【陣列布局】選項組

定義填充邊界內實例的布局陣列，可以自定義形狀進行陣列或者對特征進行陣列，陣列實例以源特征為中心呈同軸心分布。

①【穿孔】：為鈑金穿孔式陣列生成網格，其參數如圖4-34所示。

●【實例間距】：設置實例中心之間的距離。

●【交錯斷續(xù)角度】：設置各實例行之間的交錯斷續(xù)角度，起始點位于陣列方向所使用的向量處。

●【邊距】：設置填充邊界與最遠端實例之間的邊距，可以將邊距的數值設置為零。

●【陣列方向】：設置方向參考。如果未指定方向參考，系統(tǒng)將使用最合適的參考。

②【圓周】：生成圓周形陣列，其參數如圖4-35所示。

●【環(huán)間距】：設置實例環(huán)間的距離。

● 【目標間距】：設置每個環(huán)內實例間距離以填充區(qū)域。

● 【每環(huán)的實例】：使用實例數（每環(huán)）填充區(qū)域。

●【實例間距】：設置每個環(huán)內實例中心間的距離。

●【實例數】：設置每環(huán)的實例數。

●【邊距】：設置填充邊界與最遠端實例之間的邊距，可以將邊距的數值設置為零。

●【陣列方向】：設置方向參考。

③【方形】：生成方形陣列，其參數如圖4-36所示。

●【環(huán)間距】：設置實例環(huán)間的距離。

● 【目標間距】：設置每個環(huán)內實例間距離以填充區(qū)域。

● 【每邊的實例】：使用實例數填充區(qū)域。

● 【實例間距】：設置每個環(huán)內實例中心間的距離。

●【實例數】：設置每個方形各邊的實例數。

●【邊距】：設置填充邊界與最遠端實例之間的邊距，可以將邊距的數值設置為零。

●【陣列方向】：設置方向參考。

④【多邊形】：生成多邊形陣列，其參數如圖4-37所示。

●【環(huán)間距】：設置實例環(huán)間的距離。

●【多邊形邊】：設置陣列中的邊數。

● 【目標間距】：設置每個環(huán)內實例間距離以填充區(qū)域。

● 【每邊的實例】：使用實例數填充區(qū)域。

●【實例間距】：設置每個環(huán)內實例中心間的距離。

●【實例數】：設置每個多邊形每邊的實例數。

●【邊距】：設置填充邊界與最遠端實例之間的邊距，可以將邊距的數值設置為零。

●【陣列方向】：設置方向參考。

（3）【要陣列的特征】選項組

● 【所選特征】：選擇要陣列的特征。

● 【生成源切】：為要陣列的源特征自定義切除形狀。

①【圓】：生成圓形切割作為源特征，包括如下選項。

【直徑】：設置直徑。

【頂點或草圖點】：將源特征的中心定位在所選頂點或者草圖點處，幵生成以該點為起始點的陣列。

②【方形】：生成方形切割作為源特征，其參數如圖4-38所示。

【尺寸】：設置各邊的長度。

【頂點或草圖點】：將源特征的中心定位在所選頂點或者草圖點處，幵生成以該點為起始點的陣列。

【旋轉】：逆時針旋轉每個實例。

③【菱形】：生成菱形切割作為源特征，其參數如圖4-39所示。

【尺寸】：設置各邊的長度。

【對角】：設置對角線的長度。

【頂點或草圖點】：將源特征的中心定位在所選頂點或者草圖點處，幵生成以該點為起始點的陣列。

【旋轉】：逆時針旋轉每個實例。

④【多邊形】：生成多邊形切割作為源特征，其參數如圖4-40所示。

【多邊形邊】：設置邊數。

【外徑】：根據外徑設置陣列大小。

【內徑】：根據內徑設置陣列大小。

【頂點或草圖點】：將源特征的中心定位在所選頂點或者草圖點處，幵生成以該點為起始點的陣列。

【旋轉】：逆時針旋轉每個實例。

【反轉形狀方向】：圍繞在填充邊界中所選擇的面反轉源特征的方向。

2．生成填充陣列的操作方法

（1）繪制平面草圖。

（2）選擇【插入】│【陣列/鏡向】│【填充陣列】菜單命令，彈出【填充陣列】屬性管理器，根據需要，設置各選項組參數，單擊【確定】按鈕，生成填充陣列，如圖4-41所示。