1.4 真空環(huán)境特點及其應用
1650年葛利克發(fā)明了第一臺真空泵,做了著名的馬德堡半球?qū)嶒?,在球中獲得了低真空。隨著科學技術發(fā)展的需要,目前真空度適用范圍為<105~10-10Pa,已應用到各種領域。真空提供了特殊的環(huán)境條件服務于人類。真空環(huán)境的特點及應用領域分述如下。
1.4.1 真空環(huán)境產(chǎn)生壓力差
大氣壓力值可以近似取為105Pa,如果真空側(cè)為100Pa的粗真空,兩者之間差99900Pa,等于1m2面積上受到10187kg(f)的作用力,粗略地可以被認為每平方米面積上受到10t(f)的作用力。可以利用真空與大氣產(chǎn)生壓力差來做功原理制造各種產(chǎn)品,其應用領域見表1-5。
表1-5 真空環(huán)境壓力差的應用

1.4.2 真空環(huán)境中氧和水含量顯著減小
在大氣環(huán)境中,氧含量近21%;而水的含量隨著地域不同而變化,有時空氣濕度高達90%。如果真空容器由大氣壓抽到10Pa,空間氧含量降低1000倍,而水的含量下降更多。真空環(huán)境隨著氣體分子密度降低,氧和水含量顯著減小。這對大氣環(huán)境下易氧化或者腐爛物質(zhì)的生產(chǎn)與保存非常有利?,F(xiàn)代許多工業(yè)必須在少氧環(huán)境下的真空中進行,如冶煉稀有金屬,電真空器件均需要真空環(huán)境。而水汽是細菌生存的必要條件。大氣下水汽含量高,細菌昜生存,食物易腐爛。在真空環(huán)境下,細菌難以生存,有利于防腐。表1-6給出了氧和水含量少的真空環(huán)境的應用。
表1-6 真空環(huán)境的應用

1.4.3 真空環(huán)境下氣體分子運動的平均自由程增大
氣體分子處于無規(guī)則的熱運動狀態(tài),大氣下分子密度大,分子熱運動行走0.06μm,將會與另一個氣體分子相碰撞一次。隨著壓力的降低,所走的距離越來越大。由式(1-3)可知,當壓力為1.0×10-4Pa時,分子的平均自由程約67m。在一個有限的容器中,可認為不與其他分子相碰撞,能量不會損失。
同理,在真空中運動的電子、帶電粒子、金屬原子的平均自由程,像氣體分子一樣同樣會增大。
在真空環(huán)境下,電子運動的平均自由程與氣體分子的平均自由程關系如下:
(1-6)
式中 λe——電子平均自由程,m;
λ——氣體分子平均自由程,m。
在真空環(huán)境下,帶電粒子的平均自由程與氣體分子的平均自由程關系如下:
(1-7)
式中 λi——帶電粒子平均自由程,m;
λ——氣體分子平均自由程,m。
由式(1-6)及式(1-7)可見,電子或帶電粒子在真空中的平均自由程,比氣體分子的平均自由程還要大。由于真空環(huán)境中粒子自由程增大,可減小或消除粒子之間的互相碰撞,其應用領域有電子器件、光電器件、各種加速器、電子儲存環(huán)、高能加速器、重離子加速器、質(zhì)譜計、同位素分離器、電子顯微鏡、電子束焊接、蒸發(fā)式鍍膜、濺射式鍍膜、分子蒸餾等。
1.4.4 真空環(huán)境使氣體分子在固體表面形成單分子層時間增長
如前所述,在1×10-4Pa下,在固體表面形成單分子層的時間約為2s,而1×10-7Pa下,形成單分子層時間增長約36min,真空度越高,形成單分子層時間越長,提供了清潔的表面時間越長,為表面研究提供了重要條件。應用此特點,研制出了各種表面儀器,如二次離子譜儀、離子散射儀、俄歇電子能譜儀、光電子譜儀、低能電子衍射儀、電子能損失光譜儀等。提供清潔表面可以進行材料摩擦磨損及冷焊研究、材料空間試驗研究,通常要求真空度范圍為10-7~10-8Pa。
表1-7給出了表面分析儀器的名稱、代號及原理。
表1-8給出了表面分析儀器的性能及特點。
1.4.5 真空環(huán)境減小能量傳遞
大氣環(huán)境下氣體熱量傳遞有三種形式:氣體對流換熱、熱傳導及輻射換熱。當真空環(huán)境壓力到5×10-2Pa時,氣體熱傳導能力僅為大氣壓下的1%,可以忽略,不會影響熱計算的結(jié)果。對流換熱早已消失,僅有輻射換熱。顯然,即使真空度達不到高真空范圍,而在低真空環(huán)境下,由于氣體分子密度降低,其熱傳導換熱量也降低了很多。利用這種原理,可以制造保溫瓶、低溫液體儲存設備以及隔熱等。應用范圍很廣,如制造杜瓦瓶、杜瓦管、液氮貯槽、液氫貯槽、液氧貯槽、低溫液體運輸槽車、真空絕熱板、真空玻璃、液化天然氣貯罐、液化石油氣貯罐等。
貯運各種低溫液體,必須有低溫容器,而低溫容器均需要采用真空隔熱。低溫液體的應用范圍很廣,見表1-9。
表1-9 低溫液體的應用

1.4.6 真空環(huán)境使物質(zhì)沸點降低而蒸發(fā)速率加快
液體的沸點,隨著壓力的降低而降低。大氣壓下,即105Pa時水的沸點為100℃。當壓力下降到5×104Pa時,沸點約為80℃。利用真空下沸點低這一特點,使物質(zhì)在低的溫度下脫水,避免了高溫脫水使物質(zhì)受損。
真空中氣體分子密度低,單位體積中分子數(shù)大為減少,對蒸發(fā)出來的分子碰撞概率減小,即蒸發(fā)出來后不易返回。另外,真空環(huán)境壓力較低,借助于壓差作用,也會使分子易擴散到空間中去,為此可以提高蒸發(fā)速率。
真空干燥、真空脫水、真空冷凍干燥、真空蒸餾等領域?qū)φ婵罩羞@一特點進行了廣泛的應用,見表1-10。
表1-10 真空環(huán)境下沸點低蒸發(fā)速率高的應用

1.4.7 真空環(huán)境中材料迅速脫氣
各種固體物質(zhì)在大氣壓環(huán)境中,表面會吸附一些氣體,當處于真空中時,由于氣體分子密度降低,被吸附的氣體會釋放出來進入環(huán)境中。有些非致密性物質(zhì)本身就存在微孔,微孔中的空氣,在真空環(huán)境下也會釋放出來。為改善材料的性能,需浸漬各種液體,材料中氣體放出來,更有利于浸漬,得到性能更好的材料。液體中所含的氣體,在真空環(huán)境下也會釋放出來,利用這種現(xiàn)象可以進行鋼水脫氣、陶瓷泥漿脫氣、真空鑄造等。表1-11給出了真空脫氣的應用實例。
表1-11 真空脫氣的應用實例
