2　術(shù)　語

2.0.1　薄膜晶體管液晶顯示器　　thin film transistor liquid crystal display（TFT-LCD）

使用薄膜晶體管作為控制像素開關(guān)，采用有源矩陣直接驅(qū)動像素方式的液晶顯示器。

2.0.2　全自動物料搬送系統(tǒng)　　automated material handling system（AMHS）

在一個過程或邏輯動作系統(tǒng)中，一系列相關(guān)的自動化設(shè)備及裝置協(xié)調(diào)、合理地對物料進(jìn)行移動、儲存或控制的系統(tǒng)。

2.0.3　玻璃基板　　glass substrate

由表面極其平整的薄玻璃片構(gòu)成的液晶顯示器件的基本部件。

2.0.4　陣列　　array

在玻璃基板上通過成膜、光刻、刻蝕等半導(dǎo)體工藝技術(shù)，制作有規(guī)則排列的特定薄膜晶體管（開關(guān)器件）陣列，以形成數(shù)據(jù)線、存儲電容和信號線的工藝。

2.0.5　彩膜　　color filter（CF）

在透明基板上依規(guī)則排列紅、綠、藍(lán)三基色的圖形，只能使所需要的色光通過的濾光片，又稱彩色濾色片。

2.0.6　成盒　　cell

將已制備好的薄膜晶體管液晶顯示器陣列玻璃基板和彩色濾光片玻璃基板組裝到一起，使兩塊玻璃基板之間充有液晶材料，加上適應(yīng)的電場即可進(jìn)行圖像顯示的液晶盒（屏）的工藝過程。

2.0.7　空間管理　　space management

為有效利用空間、縮短工作流程，對大到整個廠區(qū)的建筑物布局、地下管線規(guī)劃，小到一棟建筑物內(nèi)部各個專業(yè)間的配置協(xié)調(diào)而進(jìn)行的設(shè)計。

2.0.8　干法刻蝕　　dry etching process

在氣相中對基板表面、被蝕刻物質(zhì)進(jìn)行刻蝕的方法。

2.0.9　等離子體增強化學(xué)氣相沉積　　plasma enhanced chemical vapor deposition（PECVD）

利用等離子體的活性促進(jìn)反應(yīng)，能在較低溫度下進(jìn)行化學(xué)氣相沉積法的反應(yīng)。