大腦半球分為外側(cè)面、內(nèi)側(cè)面和基底面，上外側(cè)面與內(nèi)側(cè)面以上內(nèi)側(cè)緣為分界，外側(cè)緣是外側(cè)面和基底面的分界。內(nèi)側(cè)面平而垂直，大腦鐮將兩側(cè)半球分隔。大腦半球的表面可見許多腦回，腦回之間被腦溝或裂分隔。在胚胎發(fā)育過程中由于皮質(zhì)相對發(fā)育較快在腦表面形成的皺褶而形成腦溝，它是腦的解剖分區(qū)和各腦回界定的重要標(biāo)志。腦溝的存在增加了腦表面積，可以使有限顱腔內(nèi)腦灰質(zhì)的表面積增加三倍。有的腦溝在不同的功能區(qū)形成了特征性的形態(tài)，了解和掌握腦溝的位置和走行可準(zhǔn)確地識(shí)別腦回和功能區(qū)(表1-1)。

中央溝是胚胎發(fā)育學(xué)上較早出現(xiàn)的腦溝，26周的胚胎腦表面即可出現(xiàn)，是大腦半球外側(cè)面最明顯也是最主要的腦溝。實(shí)體解剖上，中央溝位于大腦半球背外側(cè)面，額極與枕極連線的中點(diǎn)偏后處，長約8～10cm，迂曲向前下斜行。

中央溝是一條深溝，其深度隨走行發(fā)生變化。在大腦半球內(nèi)側(cè)面，中央溝位于扣帶溝緣支前方，將前方的額葉和后方的頂葉分開。中央溝也是中央前回和中央后回的分界。中央前回的后界是中央溝，前界是中央前溝。中央前回是隨意運(yùn)動(dòng)的皮質(zhì)中樞，皮質(zhì)脊髓束大部分纖維始于中央前回，部分纖維起自中央后回，其下行至脊髓。中央后回在中央溝和中央后溝之間，其皮質(zhì)接受軀體感覺傳入。

影像學(xué)不同平面的斷層圖像，不可能顯示中央溝在腦表面兩個(gè)彎曲的全貌，只能顯示其縱深形態(tài)。由于中央溝深且長，故在影像的矢狀位、冠狀位、橫軸位圖像上幾乎都能見到中央溝，可根據(jù)不同掃描位置和層面中腦溝、腦回之間的相互關(guān)系以及中央溝的特征性表現(xiàn)來確定中央溝。

在正中矢狀位:①中央溝位于扣帶溝緣支前方，是位于緣支前方的第1條腦溝;②寬帶征是指中央前回的厚度明顯大于中央后回，此征象對于判定中央前、后回有很大價(jià)值。

在橫軸位:①中央前溝、中央后溝與中央溝比較，后者最長，而且越接近腦頂部這種特征越明顯，形態(tài)多呈“W”形;②額上溝與中央前溝以直角相交，即額上溝-中央前溝征是指額上溝的后端進(jìn)入中央前溝的征象，而中央溝是位于該征象后方的第一條腦溝，額上溝與中央前溝相交多見于靠近腦頂部的層面，相交的形態(tài)呈倒“T”形。上述征象對于間接判定中央溝有重要的意義，尤其是當(dāng)中央溝的走行無特征性表現(xiàn)時(shí)。國外學(xué)者Ebeling等在利用額上溝后端識(shí)別中央前溝方面進(jìn)行了不少研究，研究發(fā)現(xiàn)“額上溝-中央前溝征”于左側(cè)半球出現(xiàn)率約為88%，于右側(cè)半球約為76%;③中央溝在橫軸位上呈現(xiàn)為易于辨認(rèn)的“門鈕狀”或“Ω狀”形態(tài)。

在冠狀位:呈現(xiàn)為倒“八”字征:是指兩側(cè)中央溝從后內(nèi)上方向前外下方走行，形成倒“八”字征象，中央溝出現(xiàn)的層面上可同時(shí)觀察到背側(cè)丘腦、尾狀核頭、殼和內(nèi)囊后肢(圖1-11～圖1-13)。

確定中央溝在神經(jīng)外科手術(shù)中具有非常重要的意義。中央溝是明確額葉、頂葉及中央前、后回的標(biāo)志。中央溝前方的中央前回是運(yùn)動(dòng)功能區(qū)，保護(hù)該區(qū)不受損傷對患者的預(yù)后至關(guān)重要。另外，矢狀竇旁腦膜瘤常與中央溝靜脈密切相關(guān)，由于中央溝靜脈幾乎無側(cè)支循環(huán)，損傷后可造成神經(jīng)功能障礙，所以辨認(rèn)和確定中央溝與中央溝靜脈是提高手術(shù)成功率的重要因素(圖1-13～圖1-19)。

中央后溝是大腦半球上外側(cè)面較為恒定的腦溝，常分成上、下兩部分，與中央溝大致平行，其上端多未達(dá)半球上緣，下端約半數(shù)抵達(dá)外側(cè)溝。頂內(nèi)溝通常起始于中央后溝中點(diǎn)或下部的上端。在橫軸位上，可以通過辨認(rèn)中央后回的方法來確認(rèn)中央后溝。在矢狀面上，可借助前方的中央溝與后方的緣上回來辨認(rèn)中央后溝(圖1-20～圖1-22)。

中央前溝起自額上溝，與中央溝平行。額中回與中央前回的連接部將其分為中央前上溝和中央前下溝兩部分，上述毗鄰關(guān)系在矢狀位顯示較清楚。中央前溝后方是中央前回，前方是額中回和額下回(圖1-23～圖1-24)。

頂內(nèi)溝是起自中央后溝中點(diǎn)并與半球上緣平行的腦溝。其向后下延續(xù)為枕上溝，并與枕橫溝相連(圖1-25～圖1-27)。頂內(nèi)溝上方為頂上小葉，下方為頂下小葉，后者又分為包繞外側(cè)溝后方的緣上回、圍繞顳上溝末端的角回和其后方的頂后回。

兩者將枕葉分為枕上、中、下回，枕上溝相當(dāng)于頂內(nèi)溝的升支，枕中回的上界為枕上溝，下界為枕下溝，枕下溝的內(nèi)側(cè)為枕下回。

頂上溝延伸至大腦半球內(nèi)側(cè)面并伸入楔前葉。頂下溝可與扣帶溝相連接，它可以作為扣帶溝的后支，頂下溝下方的扣帶回較寬，向后行到胼胝體壓部突然變窄。

額上溝的形態(tài)和位置雖有變異，但往往容易識(shí)別，因?yàn)樗c中央前溝關(guān)系密切，常被用于定位額上回、額中回和中央前回。解剖學(xué)上，額上溝呈連續(xù)走行者占32%～40%，余者斷續(xù)為2～4段走行。影像學(xué)上，MRI可100%顯示額上溝，額上溝后部與中央前溝相連者為88%～89%，二者以直角相交，稱之為額上溝-中央前溝征，這種征象有助于中央前回、額上回和額中回的定位(圖1-28～圖1-30)。

額下溝起自眶外側(cè)回水平的前方，位置較額上溝恒定。在矢狀位其主干走行方向與外側(cè)溝平行，前端呈“Y”形分叉，末端終止于中央前下溝。冠狀位上可見額下溝深至島葉平面(圖1-31～圖1-32)。

顳上溝又稱平行溝，位于外側(cè)溝下方并與之平行，始于顳極，穿入頂下小葉。顳下溝位于顳上溝下方，平行向后走行，止于枕葉(圖1-33～圖1-34)。

外側(cè)溝是大腦半球外側(cè)面最主要的界標(biāo)性腦溝，而且是恒定不變的。在外側(cè)溝前端可見到兩條腦溝進(jìn)入額下回，即升支和前支，外側(cè)溝末端向后延續(xù)為后支。島葉位于外側(cè)溝前支的深部(圖1-35～圖1-37)。

通過曲面重建技術(shù)，幾乎可以將大腦凸面的全部腦溝顯示于一張重建圖上。與不同方向的斷面圖相比，這種重建圖可以更加方便、直觀地顯示大腦外側(cè)面腦溝的位置和相對解剖關(guān)系(圖1-38)。