第2章　化學氣相沉積技術

化學氣相沉積（chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種化工技術，指利用加熱、等離子激勵或光輻射等手段提供能量，使一種或幾種氣相化合物或單質，在氣相或固體基底表面經化學反應形成固態沉積物的技術。CVD技術是近幾十年發展起來的新技術，已經廣泛用于提純物質，研制新晶體，沉積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜等材料。目前，CVD已成為無機合成化學領域的一種重要技術。