另一個時空，光刻機的發展經過了一個漫長的過程，1960 年代的接觸式光刻機、接近式光刻機，到 1970 年代的投影式光刻機，1980 年代的步進式光刻機，到步進式掃描光刻機，到浸入式光刻機和8102年的 EUV 光刻機，設備性能不斷提高，推動集成電路按照摩爾定律往前發展。

曝光光源方面，從 1960 年代初到 1980 年代中期，汞燈已用于光刻，其光譜線分別為 436nm（g 線）、405n...